快科技10月14日音讯，据报说念，江苏海想半导体一台8英寸全自动掩模瞄准光刻机于10月13日完成出厂调试与客户验收，讲求装车发运。该开导主要用于硅基Micro LED晶圆图形化制程，将遐想图形调养至晶圆名义。

这台光刻机面向8英寸即200毫米晶圆，配备双SMIF自动天车高下料系统及两套寥寂双机械手臂传输系统，可援手晶圆自动传输与批量化启动。正面临准精度优于正负0.5微米，并可选配后头瞄准模块，瞄准精度优于正负2微米。

该开导采取全自动三点式气悬浮找平时刻，不详合乎薄片及翘曲晶圆的曝光需求。这一特点关于Micro LED制造尤为关键，因为硅基晶圆在屡次工艺处理后容易产生形变，传统找平素式难以保证曝光精度。

江苏海想半导体主要布局接近式与讲和式光刻开导。其中枢时刻团队领有15年黄光区光刻工艺训诲，2019年首台1微米级全自动讲和式光刻机达成界限商用，2023年商用步进式光刻机上市。

当今该公司在苏州、成皆设有分娩基地，家具粉饰2至12英寸晶圆单面及双面临准光刻开导，诈欺领域包括MEMS、集成电路、化合物半导体、功率器件、3D封装、AR及Micro LED等。

此前，江苏海想的8英寸高精度光刻机已参预华东师范大学物理电子教授及科研平台，其紫外掩膜光刻机也中标深圳医学科学院采购口头，透露放洋产光刻开导在科研与高端制造领域的招供度正在擢升。

江苏海想示意，后续将继续迭代8英寸、12英寸高精度双面临准光刻平台，并与产业链客户围绕Micro LED策划工艺开展聚合研发，同期拓展光波导、光芯片及CPO光学器件等领域的光刻贬责有贪图。

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